Fraunhofer ISE
Homogen mikrostrukturierte Photoresistplatte der Größe 1,2 x 1,2 m2.
Am Fraunhofer ISE werden die optischen Eigenschaften von Oberflächenstrukturen modelliert und maßgeschneiderte Mikro- und Nanostrukturen durch Interferenzlithographie auf Flächen bis 1,2 x 1,2 m2 erzeugt. Diese sind je nach Wunsch nur 100 nm oder auch 100 µm klein. Die Strukturen können periodisch oder stochastisch angeordnet sein, die Strukturprofile können parabolisch, binär oder prismatisch gefertigt werden. Zudem können unterschiedliche Strukturgeometrien und –dimensionen miteinander in einer Urform kombiniert werden. Durch Replikationsprozesse können aus den Urformen kostengünstig strukturierte Massenprodukte z.B. für die Solar-, Beleuchtungs- oder Displayindustrie hergestellt werden.